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于1965年在大阪成立,以開發(fā)和制造激光產(chǎn)品為宗旨。然而,激光是在 1960 年發(fā)明的。正如我在主頁上的問候中提到的,我們的激光業(yè)務(wù)現(xiàn)在還為時過早。之后,為響應半導體硅片行業(yè)的需求,我們于1973年研制出高性能短波長紫外燈(低壓汞燈)。它用于對水進行**。這就是我們接觸到紫外線的原因。市場上紫外線**的歷史*悠久,已有150多年的歷史。**燈1938年由美國GE公司商業(yè)化,至今已超過80年。此外,紫外線作為**后的紫外線固化技術(shù)在 1960 年代被商品化。近年來,紫外線的應用領(lǐng)域迅速擴大,應用我們紫外線技術(shù)的產(chǎn)品也應運而生。
姓名
桌面表面清潔重整器
模型
PM2001N-3
概述
以 185 nm 和 254 nm 的光能去除納米級有機污漬
采用
?提高樹脂表面的潤濕性 ?提高
對樹脂材料上的粘合劑、涂料、涂料的附著力
?各種基材的前處理
?金屬、玻璃等表面的清洗和改性?
抗蝕劑的輕度灰化、電鍍前處理
特征
-UV處理可以很容易地進行。
-由于照射尺寸為200 x 200 mm,它不僅可以用于研究,還可以用作小型生產(chǎn)機器。
- 由于工作臺旋轉(zhuǎn),因此可以均勻照射。
1. 臭氧生成 ? 臭氧分解
2. 養(yǎng)魚(水產(chǎn)養(yǎng)殖、水族館)用水**
3. 貝類(鮑魚、紅貝、牡蠣貝)的誘導產(chǎn)卵
4. 難分解有害氣體處理(VOC等)
5. 半導體存儲器的記錄 擦除
6. 測量儀器的UV光源(臭氧濃度計、水質(zhì)監(jiān)測儀等)
7. UV臭氧干式**清洗
8. UV臭氧干式表面改性(提高附著力)
9. 潤滑劑的附著力HDD磁盤表面(UV)水產(chǎn)養(yǎng)殖)
10.加速臭氧處理(**水處理)
在當時的市場上,隨著電路半導體化的發(fā)展,需要對用于清洗硅片的純水進行**的高性能紫外線**光源。憑借過去制造激光放電管的經(jīng)驗,我們挑戰(zhàn)了半導體行業(yè)所需的高性能紫外燈的開發(fā),并于 1973 年成功開發(fā)了它們。那是接觸我們當前的核心技術(shù)——紫外線技術(shù)的機會。下一代UV市場是液晶電視市場,集成度提高,良率提升難度極大。液晶電視誕生于美國,但日本是世界上**個商業(yè)化成功的產(chǎn)品。短波紫外線已被證明是一種可以高度直接清潔玻璃面板的技術(shù),因此很快被液晶電視制造行業(yè)采用。
除干洗外,紫外線還具有改性作用,可提高塑料和金屬的粘合強度。在使用強效化學物質(zhì)的重整技術(shù)中,紫外線是**不會損害表面光滑度的特性,因此非常適合高度集成化和小型化的 IT 產(chǎn)品的制造過程。專門用于加強大容量存儲設(shè)備(HDD)磁盤表面潤滑劑的涂抹,UV技術(shù)也用于半導體基板封裝工藝。在水處理領(lǐng)域,紫外線已有100年的歷史,但紫外線和氧化劑可以結(jié)合使用來處理有機污染物。作為未來的一項先進技術(shù),它被稱為紫外線加速氧化水處理,被寄予厚望。由于我們在內(nèi)部制造用作紫外線光源的燈,因此我們在制造紫外線設(shè)備方面具有優(yōu)勢和潛力。